Vaikka olemme puhuneet pitkään EUV-tekniikasta, monia asioita on edelleen valmisteilla. Alkaen siitä, että hakemuksesi siirretään massiivisesti muille teollisuudenaloille sen ulkopuolella GPU ja prosessori pelimerkkejä, kuten RAM, mutta jos Minä V on niin monimutkainen, miksi he aikovat ottaa käyttöön DRAM-muistissa, kun he käsittelevät hyvin alhaisia kustannuksia?
Tämän pääkysymys olisi, miksi teollisuus tarvitsee EUV-tekniikkaa? Kaikki siirtyvät siihen, mutta tavallinen käyttäjä ei oikeastaan ymmärrä, mitä hyötyä siitä on. Lyhyesti sanottuna: kustannukset, nopeus ja skaalautuvuus. Kolmesta ehkä skaalautuvuus on tärkein, koska kustannukset ja nopeus eivät ole verrannollisia ja yksi laskee ja toinen kasvaa, mutta jos meillä on pullonkaula skaalautuvuudessa, teollisuus ei edisty.
Aika liittyy luontaisesti nopeuteen, jokainen haluaa saapua aikaisemmin
Suurin etu mekaanisen insinöörin ja litografisten naamareiden suunnittelijan kannalta on, että EUV yksinkertaisesti vähentää jokaisessa kaiverruksessa käytettyjen vaiheiden määrää ja kuvioiden määrää.
Se itsessään on keskeinen etu, mutta jos lisäämme myös pienemmän aallonpituuden nanometreinä, meillä on pienemmät transistorit ja utelias parempi kaiverrettu laserin ja skannerin tarkkuuden saamiseksi.
Siksi TSMC, Samsung ja Intel taistelevat saadakseen ASML-skannerit, erityisesti Korean, koska se aikoo (ja ilmeisesti onnistuu) sisällyttämään tekniikan NAND Flash ilmeisistä syistä.
Mutta koska EUV on edelleen tekniikka, joka ei ole kovinkaan kypsä ja erittäin kallis, kuinka naimisiin sen kanssa, että EUV: tä käytetään, kun kaikki on niin kallista sen ympärillä? Siksi kaikki valmistajat siirtyvät tähän tekniikkaan ...
NAND Flash -ominaisuuden ansiosta EUV voidaan levittää piillesi
On kolme ratkaisevaa tekijää sen ymmärtämiseksi, miksi teollisuus pääsee EUV: iin, kuten suorittimiin ja näytönohjaimiin. Ensimmäinen liittyy solujen rakenteeseen, koska niiden luomiseen käytetään hyvin säännöllisiä kuvioita, mikä tarkoittaa niiden jatkuvaa toistamista.
Toinen tekijä on NAND Flashin tuominen markkinoille. Koska se on vain muotoilu, siihen sijoittaminen kannattaa, jos et lopeta kiekkojen valmistamista myöhemmin, ja jopa ihojen päivittäminen kannattaa, koska parannat suorituskykyä ja se on aina hyvä.
Lopuksi, redundanssi suunnittelussa mahdollistaa suuremman vikaantumisasteen, joten teet paljon kannattavampia kiekkoja ja siruja parantamalla lopullista hintaa ja pystyäsi olemaan kilpailukykyinen. Jos tähän lisätään tosiasia, että näillä siruilla voitaisiin saavuttaa suurempi nopeus ja suurempi tiheys ... voimme ymmärtää, miksi skannerin valtavasta rahamäärästä huolimatta Samsung on heittänyt itsensä etusijalle niihin.
Eivätkö maskit aiheudu DRAM-muistiin, samoin kuin suorittimeen ja näytönohjaimeen?
Ne ovat kaikille yhtä lailla - nimeltään Avaruus-aihiot EUV-naamiot ovat edelleen ongelma niiden oman rakenteen ja materiaalien takia. Naamio koostuu kirkkaasta alueesta ja pimeästä alueesta, jossa näiden kahden väliset rajat ovat hyvin teräviä.
Kirkas alue on heijastin, erittäin ohut kerros, jonka koko on 40-50 nanometriä pinnan alapuolella. Tämän kerroksen tarkoituksena on luoda heijastusta niin, että kiekko on tyhjä siinä vaiheessa, joten valoa heijastettaessa tarvitaan absorboijaa hankkimaan tuo valo eikä jättämään sitä liikkumaan peilien läpi, ja se on suurin ongelma.
Jos linssi ja naamio eivät ole tarpeeksi täydellisiä, saat hämärän kuvan kiekolla, joten transistorit eivät nauhoita hyvin. Joten tämän parantamiseksi käytetään elektronisäteitä ja ns. Kalvoa, joka on hyvin ohut kerros maskin yläpuolella, joka suojaa sitä pölyltä ja mahdollisilta virheiltä, jotta kaiverrus on täydellisempi.
Elektronisäteiden käyttö parantaa tarkkuutta, kalvo pahentaa sitä, mutta kompensoi suojaamalla maskia. Joten NAND Flash -teollisuus siirtyy vähitellen EUV: hen, kunnes muutaman vuoden sisällä kaikki sirut valmistetaan tällä hetkellä kalliilla tekniikalla, joten meidän pitäisi nähdä erittäin suuret tuotot muutamassa vuodessa.
